【英文标准名称】:Surfacechemicalanalysis-Chemicalmethodsforthecollectionofelementsfromthesurfaceofsilicon-waferworkingreferencematerialsandtheirdeterminationbytotal-reflectionX-rayfluorescence(TXRF)spectroscopy
【原文标准名称】:表面化学分析.从硅片工作标准物质表面采集元素的化学方法及其全反射X射线荧光光谱法的测定
【标准号】:BSISO17331-2004
【标准状态】:作废
【国别】:英国
【发布日期】:2005-03-31
【实施或试行日期】:2005-03-31
【发布单位】:英国标准学会(GB-BSI)
【起草单位】:BSI
【标准类型】:()
【标准水平】:()
【中文主题词】:薄片;光谱学;硅片;含量测定;X射线荧光光谱法;X射线分析;印制电路板;特性;硅;全反射;表面;定义;化学分析和试验;精整;X射线
【英文主题词】:Chemicalanalysisandtesting;Definition;Definitions;Determinationofcontent;Finishes;Printed-circuitboards;Properties;Silicon;Siliconslices;Spectroscopy;Surfaces;Totalreflection;Wafers;X-ray;X-rayanalysis;X-rayfluorescencespectrometry
【摘要】:ThisInternationalStandardspecifieschemicalmethodsforthecollectionofironand/ornickelfromthesurfaceofsilicon-waferworkingreferencematerialsbythevapour-phasedecompositionmethodorthedirectaciddropletdecompositionmethod.ThisInternationalStandardappliestoironand/ornickelatomicsurfacedensitiesfrom6×109atoms/cm2to5×1011atoms/cm2.
【中国标准分类号】:G04
【国际标准分类号】:71_040_40
【页数】:28P;A4
【正文语种】:英语